產(chǎn)品資料

成都西野供應(yīng)：ULVAC愛發(fā)科濺射設(shè)備

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產(chǎn)品名稱: 成都西野供應(yīng)：ULVAC愛發(fā)科濺射設(shè)備
產(chǎn)品型號(hào): RFS-201
產(chǎn)品展商: ULVAC愛發(fā)科
產(chǎn)品文檔: 無相關(guān)文檔

簡(jiǎn)單介紹

配有RF電源的小型高頻濺射設(shè)備。 可以實(shí)現(xiàn)金屬，半導(dǎo)體，絕緣體成膜，因此非常適用于基礎(chǔ)研究開發(fā)等實(shí)驗(yàn)用途。


成都西野供應(yīng)：ULVAC愛發(fā)科濺射設(shè)備  的詳細(xì)介紹

濺射設(shè)備

濺射設(shè)備

RFS-201

ULVAC

配有RF電源的小型高頻濺射設(shè)備。 
可以實(shí)現(xiàn)金屬，半導(dǎo)體，絕緣體成膜，因此非常適用于基礎(chǔ)研究開發(fā)等實(shí)驗(yàn)用途。

特點(diǎn)

  • 絕緣，金屬，半導(dǎo)體材料的濺射設(shè)備。
  • 主泵使用油擴(kuò)散泵。
  • 可以在Φ80mm×1陰極上單層成膜。
  • 通過傳統(tǒng)濺射，濺射速度可達(dá)到20nm/min（SiO2）

規(guī)格

型式 RFS-201
真空性能 極限壓力 6.6×10-４Pa
排氣時(shí)間 6.6×10-３Pa/5min
真空槽 真空槽 金屬腔 （200mm(W)×250mm(D)×150mm(H))
陰極 Φ80mm、1元
基板推薦尺寸 Φ80mm×t1-5mm
有効成膜范圍 50mm
成膜速度 SiO2 SiO2, 成膜20nm/min以上
膜厚分布 SiO2 SiO2, 成膜50mm范圍±8％以內(nèi)
基板加熱溫度 Max 350℃
基板／電極間距 30～50mm(可変）
排氣系統(tǒng) 主泵 油擴(kuò)散泵（水冷） 150L/sec
液體氮?dú)獠都?/span> 選項(xiàng)
補(bǔ)助泵 油回轉(zhuǎn)泵 100L/min
油霧捕集器 油霧捕集器 OMT-100A
操作系統(tǒng) 主閥 插板閥
補(bǔ)助閥 三通閥
自動(dòng)泄露閥 選項(xiàng)
操作 手動(dòng)
控制系統(tǒng) RF電源 Max 300W (0～300Ｗ可変）
皮拉尼真空計(jì) G-TRAN
電離真空計(jì) 選項(xiàng)
設(shè)置 *大尺寸 764mm（W）×723mm（D）×1648mm（H）
質(zhì)量 260kg

效用

型式 RFS-201
所要電氣量 200V 單相 50/60Hz 2.8kVA
接地端子 A種 （接地抵抗値 10Ω以下）
所要水量 5.0 L／min　(水溫:25℃以下、水圧:200～300kPa（表壓）)
組合連接 （電源） 橡膠絕緣軟電纜（帶R2-5壓接端子）　4m
組合連接 （接地） 接地電纜（銅板）　4m
組合連接（水） 滌綸軟管（內(nèi)徑9mm×外徑15mm）、4m（2本）

尺寸圖

zu_rfs201.gif

真空槽內(nèi)部構(gòu)成

基本構(gòu)成

zu_rfs201_fc.gif

[1] 罩子
[2] 陰極
[3] 陽(yáng)極
[4] 快門
[5] 電流導(dǎo)入端子
[6] 熱電偶導(dǎo)入端子
[7] 真空計(jì)端口
[8] 支架
[9] 背板
[10] 靶材
[11] 準(zhǔn)備端口
[12] 正門

支架圖

[標(biāo)準(zhǔn)]

zu_rsf200_holdere.gif

※我們將根據(jù)您的研發(fā)目的進(jìn)行定制。

可選配件

●液體氮?dú)獠都? ●電離真空計(jì)
●磁控電極 ●內(nèi)置捕集器（OMI-100）
●渦輪分子泵 ●DC電源
●導(dǎo)入氣體2系統(tǒng)，3系統(tǒng) ●油回轉(zhuǎn)泵自動(dòng)泄露閥

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